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显影刻蚀和剥膜设备培训资料(PDF 53页)

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设备管理
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显影刻蚀和剥膜设备培训资料(PDF 53页)内容简介
一、显影
显影的基本知识及原理
显影设备
显影过程中易出现的问题
二、刻蚀
刻蚀的基本原理
刻蚀设备
刻蚀过程中注意事项
刻蚀过程中容易出现的问题
三、剥膜
剥膜的基本知识
剥膜设备
剥膜过程中容易出现的问题
显影:使用显影液处理玻璃表面,将未经过光照的光刻
胶层或者感光性电极浆料除去(因为使用的是负性胶),
保留住光照过的部分,用化学方法使UV光未照射部分
的光刻胶或感光性电极浆料溶于显影液中。
 该工序主要用于ITO电极、BUS电极、ADD电极的制备
过程中。
P-5
1、显影过程:
(1) ITO 显影的PR胶成分:Binder Polymer;Photo-initiator
(PI);Cross-linkable monomer(交联单体);Additive;
Solvent等。
(2)BUS和ADD浆料的主要成分: Ag; Glass Powder;
Resin;Solvent;Filler ;Additives;Others
它们使用的是碱溶性感光树脂。
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